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據外媒報道，近日俄羅斯莫斯科電子技術學院（MIET）已經接下了貿工部的6.7億盧布資金（約合5100萬元），準備研發制造芯片的光刻機，并號稱該款光刻機的工藝可以達到EUV級別，但技術原理完全不同，他們研發的是基于同步加速器或等離子體源的無掩模X射線光刻機。

“MIET”是MIET高科技領域的全新領域實驗室。現代、對教育過程的認識教育以及科學和工業的俄羅斯獨特的集成，使MIET成為和納米電子電信、微電子和信息技術領域培訓的專家領導者是大學最強大的三所大學的發明者之一，是莫斯科國立大學的重要一員位的俄羅斯大學高等教育之一。

如今俄羅斯的芯片制造產業受到俄烏局勢影響，目前提供高端芯片制造能力的韓國和中國臺灣，提供光刻膠等關鍵芯片制造材料和設備的日本，已經宣布禁止向俄羅斯出口被美國列入出口管制清單的物品。這些動作切斷了俄羅斯獲取高端芯片以及自主生產芯片所需的材料和設備的渠道。

而說到EUV光刻機設備，現如今只有荷蘭的ASML公司能夠生產和制造，因為其涉及到了技術專利過多，而且供應鏈也來自于各個國家，所以想通過單純的仿造和學習，很難有所突破，尤其是技術專利的問題。所以這也有了當初ASML說過的話“給圖紙也造不出”。

據稱此次俄將準備研發EUV光刻機設備，不過此EUV光刻機非ASML的EUV光刻機。因為俄研發的EUV光刻機設備是基于同步加速器的無掩模X射線光刻機設備。相比于ASML得EUV光刻機少了光掩模版，可以直寫光刻機，這一點可以節省一部分的成本費用。

而從技術角度來說，X射線光刻機的波長介于0.01nm到10nm之間，分辨率方面也要比ASML的EUV光刻機更高。正是因為成本降低的同時分辨率提升，所以外媒也表示這方面連ASML也做不到。

但是說到這里就需要考慮另外一個現實，X射線光刻機雖然理論角度比EUV光刻機更優秀，但縱觀全球范圍內，X射線光刻機都未能實現大規模量產。并不是因為該項技術是首次提出，而是因為諸多國外企業在經過研發和生產以后，其生產的效率遠不如ASML的光刻機，所以一直未能大規模量產，研發的國家當中也包括我國。

不過全球范圍內沒有量產的成功案例，并不意味著俄羅斯就會失敗。雖然其研發能力并不是全球頂尖，但是當地企業內卻有著大量的科研人才。華為在俄當地的研發中心里也有不少來自于當地的科研人才。甚至有消息表示，華為的3G技術，就是因為俄的一位數學家提供的算法所實現的。

也有人吐槽投資6.7億盧布的資金不夠，但這畢竟是首批投入資金，而該項目也是長期研發工作，所以未來還會進一步擴大規模。再加上當地豐富的人才資源，所以X射線光刻機的研發也并不一定會比想象中的更困難。